Первый в России фотолитограф с разрешением 350 нм создала московская компания

Уникальное оборудование для производства отечественных микросхем разработали специалисты из ОЭЗ «Технополис Москва», сообщил в своем Telegram-канале мэр Сергей Собянин. По его словам, меньше 10 стран в мире способны выпускать такие фотолитографы.

• Оборудование создано в партнерстве с белорусским заводом и отличается от зарубежных аналогов. В частности, впервые вместо ртутной лампы в качестве излучения будет применяться мощный твердотельный лазер с узким спектром.
• Фотолитограф с разрешением 350 нанометров, как сообщается, уже заинтересовал как минимум одного заказчика. В компании обещают адаптировать технологические процессы под запросы конечного потребителя.